HCTG स्वचालित सुख्खा पाउडर इलेक्ट्रोम्याग्नेटिक आइरन रिमूभर

छोटो वर्णन:


उत्पादन विवरण

उत्पादन ट्यागहरू

लागू हुने

यो उपकरण कमजोर चुम्बकीय अक्साइड, टुक्रा हटाउन प्रयोग गरिन्छफलामको खिया र अन्य प्रदूषकहरू राम्रो सामग्रीबाट। यो व्यापक रूपमा लागू हुन्छदुर्दम्य सामग्री, सिरेमिक, गिलास र मा सामग्री शुद्धीकरण गर्नअन्य गैर-धातु खनिज उद्योगहरू, चिकित्सा, रसायन, खाद्य रअन्य उद्योगहरू।

क

प्राविधिक सुविधाहरू

◆ चुम्बकीय सर्किटले वैज्ञानिक र तर्कसंगत चुम्बकीय क्षेत्र वितरणको साथ कम्प्युटर सिमुलेशन डिजाइन अपनाउँछ।
◆ चुम्बकीय ऊर्जाको उपयोग दर बढाउन र पृथकीकरण क्षेत्रमा चुम्बकीय क्षेत्रको तीव्रता ८% भन्दा बढी बढाउन कुण्डलीका दुवै छेउहरूलाई स्टील आर्मरले बेरिएको हुन्छ, र पृष्ठभूमि चुम्बकीय क्षेत्रको तीव्रता ०.६T सम्म पुग्न सक्छ।
◆ उत्तेजना कुण्डलीहरूको खोल पूर्ण रूपमा सिल गरिएको संरचनामा हुन्छ, ओसिलोपन, धुलो र जंग प्रतिरोधी हुन्छ, र कठोर वातावरणमा काम गर्न सक्छ।
◆ तेल-पानी यौगिक शीतलन विधि अपनाउने। उत्तेजना कुण्डलहरूमा छिटो ताप विकिरण गति, कम तापक्रम वृद्धि र चुम्बकीय क्षेत्रको थोरै थर्मल रिडक्सन हुन्छ।
◆ ठूलो चुम्बकीय क्षेत्र ग्रेडियन्ट र राम्रो फलाम हटाउने प्रभावको साथ, विशेष सामग्री र विभिन्न संरचनाहरूमा बनेको चुम्बकीय म्याट्रिक्स अपनाउने।
◆ सामग्री अवरोध रोक्नको लागि फलाम हटाउने र डिस्चार्ज गर्ने प्रक्रियाहरूमा कम्पन विधि अपनाइन्छ।
◆ स्पष्ट फलाम हटाउनको लागि फ्ल्याप प्लेट वरिपरि सामग्री चुहावट समाधान गर्न सामग्री विभाजन बक्समा सामग्री अवरोध स्थापना गरिएको छ।

प्राविधिक प्यारामिटरहरू

मोडेलप्यारामिट  HCTG-150 को लागि सोधपुछ पेश गर्नुहोस्, हामी तपाईंलाई 24 घण्टामा सम्पर्क गर्नेछौं।  HCTG-200 को लागि सोधपुछ पेश गर्नुहोस्, हामी तपाईंलाई 24 घण्टामा सम्पर्क गर्नेछौं।  HCTG-250 को लागि सोधपुछ पेश गर्नुहोस्, हामी तपाईंलाई 24 घण्टामा सम्पर्क गर्नेछौं।  HCTG-300 को लागि सोधपुछ पेश गर्नुहोस्, हामी तपाईंलाई 24 घण्टामा सम्पर्क गर्नेछौं।
पृष्ठभूमि चुम्बकीयक्षेत्र(T) ७०००
काम गर्ने व्यासचेम्बर(मिमी) φ१५० φ२०० φ२५० φ३००
उत्तेजना शक्ति (kW) ≤ ३५ ≤ ३७ ≤ ४० ≤ ४४
काम गर्ने व्यासचेम्बर(मिमी) ० .१६×२ ० .१६×२ ० .१६×२ ० .१६×२
प्रशोधन क्षमता (t/h) ० .२ ~ ० .४ ० .३ ~ ० .५ ० .५ ~ ० .८ ० .८ ~ १ .२
उपकरणको उचाइ (मिमी) ३८०० ३८५५ ४००० ४२००

  • अघिल्लो:
  • अर्को: